Chitose, Hokkaido, Japão, 4 de outubro de 2024 – Agência de Notícias Kyodo – A fabricante japonesa de semicondutores Rapidus anunciou a criação de um centro de pesquisa e desenvolvimento (P&D) para processos de pós-processamento de chips na prefeitura de Hokkaido, no norte do Japão. O novo centro, localizado na cidade de Chitose, está programado para iniciar suas operações em abril de 2026.
O foco do centro será nos chamados processos de back-end, que incluem a separação dos circuitos gravados em wafers e a montagem dessas peças em produtos finais. Esta iniciativa faz parte dos esforços da Rapidus para estabelecer uma produção doméstica de semicondutores de ponta no Japão.
A empresa já está construindo uma fábrica em Chitose, com planos de operar linhas-piloto em abril do próximo ano e iniciar a produção em massa em 2027. Atualmente, a Rapidus já conduz pesquisas e desenvolvimento de processos front-end, como a gravação de padrões de circuitos delicados em wafers.
Uma cerimônia de lançamento da pedra fundamental do novo centro de P&D foi realizada na quinta-feira (3). Uma sala limpa de aproximadamente 9.000 metros quadrados será instalada dentro da fábrica da Seiko Epson em Chitose, adjacente ao local de fabricação da Rapidus.
O presidente da Rapidus, Atsuyoshi Koike, afirmou que, embora a tecnologia seja complexa, o desenvolvimento tem progredido conforme o cronograma. Ele também revelou que a empresa está atualmente em negociações com cerca de 40 potenciais clientes.
A Rapidus enfrenta desafios significativos, incluindo o desenvolvimento de tecnologia de produção em massa para chips de ponta, a garantia de investimentos em larga escala e a conquista de clientes. Este novo centro de P&D representa um passo importante na estratégia da empresa para se estabelecer como uma líder global na produção de semicondutores avançados.
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